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Research on chemical mechanical polishing mechanism of novel diffusion barrier Ru for Cu interconnect
作者:by Jie Cheng.
出版者:Springer Singapore : Imprint: Springer
出版地:Singapore :
語文:英語
叢書名:Springer theses,
電子資源:
http://dx.doi.org/10.1007/978-981-10-6165-3
ISBN/ISSN/ISRC:9789811061653 ; 9789811061646
作者:
Cheng, Jie.
索書號:621.38152
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